具有適合于分析光斑和光束位置以及用于均勻激光光束特點(diǎn)描述的各種軟件工具，可選附件便于協(xié)調脈沖激光器和單脈沖的測量。

 

機械部分采用特殊表面細化、光學(xué)部分采用光學(xué)增透膜把雜散光減小到zui小的優(yōu)化探測頭。

 

VIS/NIR激光光束分析儀 UV激光光束分析儀

 

基于激光光束分析儀的“光束檢測”的CCD相機，被優(yōu)化適合于低輸出功率的連續和脈沖激光器準直光束分析，大部分VIS/NIR波長(cháng)范圍的激光，可用此系統典型分析，例如Nd:YAG或者半導體激光器通常使用此系統分析。

 

光束質(zhì)量分析儀包含Beamlux II軟件、標準攝像頭及附件如中性密度濾光片組合和可快速建立測量的設備，使用這些可選配件，系統也可用于高功率激光束和焦點(diǎn)直徑小于10µm的測量。

 

產(chǎn)品應用：測量光斑大小、發(fā)散角、近場(chǎng)、遠場(chǎng)、光束指向穩定性、功率、焦散、均勻性

 

光束質(zhì)量分析儀的使用

 

目的：

 

1、學(xué)會(huì )使用光束質(zhì)量分析儀 BeamScope-P7探頭測量激光光束M2

 

2、學(xué)會(huì )使用激光質(zhì)量分析儀WinCamD 探頭觀(guān)察和測量激光光斑。

 

原理：

 

2M 是一個(gè)描述激光光束的不完善程度的無(wú)量綱參數。2M 值越?。垂馐浇咏苌錁O限的00TEM 的理想光束），光束就越能夠緊聚焦成一個(gè)小光斑。

 

沒(méi)有激光光束是完全理想的。由于光學(xué)諧振腔、激光介質(zhì)和輸出/輔助光學(xué)元件的影響，大多數光束都不是書(shū)本上介紹的“理想的”、衍射極限的、高斯截面的單一的00TEM 模式。復雜的光束可能包含多個(gè)xy TEM 模式的貢獻，導致了較大的2M 因子，即使是較好的實(shí)驗室用的He-Ne 激光也有1.1到1.2左右的值，而不是具有理想的00TEM 模式下的1.0的2M 值。

 

簡(jiǎn)單的說(shuō)2M 可以定義為：實(shí)際的光束與具有相同束腰大小的、理論上的衍射極限的光束的發(fā)散程度之比為：測量2M 因子的前提條件是得到或形成一個(gè)可以測量的光束束腰。