UVM10 -UV光束質(zhì)量分析儀

 metroluxUVM10 -UV光束質(zhì)量分析儀可測量激光強度分布，范圍包括EUV，UV，VIS和NIR，光斑直徑從1µm - 100 mm，可按EN-ISO標準記錄和分析光束。

    具有適合于分析光斑和光束位置以及用于均勻激光光束特點(diǎn)描述的各種軟件工具，可選附件便于協(xié)調脈沖激光器和單脈沖的測量。

    機械部分采用特殊表面細化、光學(xué)部分采用光學(xué)增透膜把雜散光減小到zui小的優(yōu)化探測頭。

    VIS/NIR激光光束分析儀 UV激光光束分析儀

    基于激光光束分析儀的“光束檢測”的CCD相機，被優(yōu)化適合于低輸出功率的連續和脈沖激光器準直光束分析，大部分VIS/NIR波長(cháng)范圍的激光，可用此系統典型分析，例如Nd:YAG或者半導體激光器通常使用此系統分析。

    光束質(zhì)量分析儀包含Beamlux II軟件、標準攝像頭及附件如中性密度濾光片組合和可快速建立測量的設備，使用這些可選配件，系統也可用于高功率激光束和焦點(diǎn)直徑小于10µm的測量。

產(chǎn)品參數 ：

可用的UV轉換窗口片： K2、K6、k7、K8

波長(cháng)：                            1 - 360 nm

轉換器：                          可選

功率：                             <10W

傳感器類(lèi)型：                 CCD2/3"

軟件：                           Beamlux II高級版

光束類(lèi)型：                    原始發(fā)散光

光斑大?。?/span>                   <56X44mm2

能量密度：                  <50mJ/cm2

接口：                        IEEE1394

工作距離：                 取決于轉換窗口片

可選型號：

UVM10-S ：   探測面積 12 x 9 mm²
UVM10-M：   探測面積23 x 17 mm²
UVM10-L：    探測面積30 x 25 mm²
UVM10-XL：   探測面積 44 x 33 mm²
UVM10-XXL ： 探測面積50 x 40 mm²

不同的型號尺寸有差別，其他大小探測器面積請咨詢(xún)我們！

產(chǎn)品應用：光斑大小、發(fā)散角、近場(chǎng)、遠場(chǎng)、光束指向穩定性、功率、均勻性

轉換窗口片：

 窗扣片的功能為把紫外光和紅外光轉換為可見(jiàn)光進(jìn)入光束質(zhì)量分析儀進(jìn)行分析，材料轉換指標如下：

                                                                              窗口片材料

                                                                           可選尺寸